半導體製程

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因為找不到相關的板發文，所以發在這

想請問個位，如果製程做失敗，可以用顯影劑洗掉整個基板上的光阻，讓它變成跟新的一樣，以此重複使用嗎
還是說經過了曝光與蝕刻，板子的性能早已改變 我已經上網爬文，但找不到相關內容，煩請各位高手解答

SIMON1016

光阻曝光顯影製作 Mask，到這段還有救，
之後在離子佈植過程中，Mask 遮擋不想被摻雜的區域....過了摻雜，性能已改變

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SIMON1016 發表於 2019-12-13 11:46 PM
光阻曝光顯影製作 Mask，到這段還有救，
之後在離子佈植過程中，Mask 遮擋不想被摻雜的區域....過了摻雜， ...

原來如此，感謝您!