|
發表於 2012-5-29 21:23:16
|
顯示全部樓層
關於曝光問題,我以前有發表過意見,再次說明!!
一定要把"圖案"和"感光板"貼在一起,也就是要印"鏡對模式",這在半導體的PHOTOLITHOGRAPHY 裡面開宗明義的提到它叫做"硬接觸"模式,最好的效果但是對於"母板"(光罩)最傷!! 你只要把PCB感光膜 母板(母片)還有底下的投影片或是紙或是玻璃..放大100倍,這時候你會發現假如是使用"非鏡對模式"的母片,光線會從投影片的間隙打到"感光膜",這時候感光膜就會受到多餘的光量而導致"漏光",因而造成"線條變細"...
空曠區和密線區的顯影後線條差異大,這叫做"負載效應",全班同學一起打掃有人掃地有人擦黑板有人掃走廊,擦黑板的一下就搞定了,但是時間還足夠,只好搗亂啊!!等到掃走廊的把地掃乾淨,教室也被弄得一遢糊塗!! 辦法呢? 就是好好分配 ! 把空曠區放一些無用的圖案這樣就會讓 工作量"平均",就像是掃走廊的在走廊上放一些多出來的課桌椅教具櫃子... 走廊要清掃的量減少,掃地時間"縮短"了,作亂的時間也變少了... |
|