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發表於 2011-8-11 16:12:23
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回復 s10274chen 的帖子
chen大:
我呆在半導體黃光室(上光阻 曝光 顯影)設備維修約15個年頭,乾蝕刻設備約5個年頭,這方面有些涉略,加上以前也洗過PCB,所以綜合上面有一些經驗,曝光方面: 很重要的是要把遮蓋的效果儘量提升,假如你的母片(我們用的是鉻膜)遮光效果很好那曝光再久都不是問題,這可以從PCB銅線或是大片區域中發現,假如有被吃掉造成坑洞,就表示遮光效果不佳(我認為以前的黑色貼帶應該算最好吧!)噴墨或是雷色碳粉或許也會漏光!! 接下來就是你提到的"線"被吃細了!! 這就是所謂的"陰影"效應,光線只要不是"平行光"就容易造成"陰影"陰影時間久了還是會造成曝光,尤其是你的"母片光罩"和感光膜"有距離",這樣的陰影問題更嚴重,(陽光下撐著黑傘,請問臉和小腿哪一個比較會被曬黑?),這時候建議母片要和實際線路圖"相反",如此要曝光的時候就非得"面對面"貼的緊,這樣連帶著把透明片和感光膜的距離減少到最小(陰影效應最低)線路在曝光的時候受光差異也就最小.... |
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