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[其它] ST 2N3055 電晶體拆解~

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發表於 2014-5-7 21:50:35 | 顯示全部樓層 |閱讀模式
01.這些 2N3055 看起來有被打磨的感覺~
001.jpg
02.心一橫拆一顆來看看
002.jpg
03.大家來幫我看看, 此為真貨還是假貨呢?
003.jpg
04.放個它的原蓋當比例尺
004.jpg

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發表於 2014-5-7 22:59:16 | 顯示全部樓層
真的吧~ 我家之前有從機器上拆下的3055,也是像這樣是噴過漆的樣子
發表於 2014-5-7 23:33:52 | 顯示全部樓層
應該是真的,不過現在的新品3055/2955一般來說都cost down,耐用度都比不上近四十年前出產的MOTOROLA鋁殼古董品.
發表於 2014-5-7 23:53:04 | 顯示全部樓層
以前我也很好奇的拆過1個
可是我拆的那顆在晶片上還有一層類似凝膠的東西
P大拆的這1顆怎麼沒有那類似凝膠的東西呢?
n_066|
發表於 2014-5-8 00:15:54 | 顯示全部樓層
這是真的 現代版的 引線改用鋁了
以前是用紫銅片

如果拿噴刀去燒它  可以把晶粒拿下來
拿放大鏡看   看的到BE  C在下面
發表於 2014-5-8 10:16:12 | 顯示全部樓層
應該是真的。晶片上面粗線是 Emitter. 細線是 Base, 晶片底部是 Collector.
通常封裝的時候,打金屬蓋子上去的機器,要碼充氮氣,不然就是充乾燥空氣。
所以當你拆開來的時候,空氣跟水氣跑進去了.
發表於 2014-5-8 13:38:08 | 顯示全部樓層
可能是晶片工藝進步了,看起來晶粒好像比以前的小很多。
 樓主| 發表於 2014-5-8 13:45:47 | 顯示全部樓層
不知道是否是工藝是否進步, 我量他的大小,約為 2.5/2.5mm
發表於 2014-5-8 20:44:13 | 顯示全部樓層
pmerw 發表於 2014-5-8 01:45 PM static/image/common/back.gif
不知道是否是工藝是否進步, 我量他的大小,約為 2.5/2.5mm

呵呵! 製程技術進步是一定的啦, 但背後的推手是成本考量.

以 Toshiba 為例, 600V的高壓MOS型號修改一系列, 代表製程微縮進步一次,
不是晶粒變小就是旁邊的支架或導線減化, 當然生產成本就降低一些.


 樓主| 發表於 2014-5-18 23:24:36 | 顯示全部樓層
01.今天又殺了一顆 Toshiba 的
012.jpg
02.Die 有比較大 (3.3x3.3 mm), 上面還上了不知名的膠
013.jpg
發表於 2014-5-20 01:37:51 | 顯示全部樓層
請問P大,是用啥方法拆的??

切口蠻工整的,值得學習^^。

 樓主| 發表於 2014-5-20 08:41:09 | 顯示全部樓層
A-John 發表於 2014-5-20 01:37 AM static/image/common/back.gif
請問P大,是用啥方法拆的??

切口蠻工整的,值得學習^^。

老虎鉗
發表於 2014-5-22 00:06:04 | 顯示全部樓層
哈~ 沒想到用老虎鉗就能拆得這麼工整^^。

功夫真好!!
發表於 2014-5-22 01:17:34 | 顯示全部樓層
那麼細的鋁導線能耐到額定的15AMP嗎??
發表於 2014-5-22 11:30:33 | 顯示全部樓層
這種D/B製程屬於soft solder方式,也就是銲錫與晶片底部接和,然後W/B製程使用打鋁線方式焊接,可以耐大電流.
PS.這種銲錫使用一般烙鐵昰沒辦法溶化的.
發表於 2014-5-23 19:36:50 | 顯示全部樓層
一般 power 元件,通常晶片底下是使用錫片,會與晶片底下的錫鎳合金共鎔。原理的話我就不多做解釋,因為各家有個家的結構。白色的凝膠,成分是矽膠(Sillicone)成分,主要是防水氣的功能。
某些一般用途的低價位二極體也會在晶片四周塗上矽膠。主要用途是防水氣及防止環氧樹脂(Epoxy中的鹵素離子雜質侵害)

一般 IC元件, die bond 會用銀膠,銀膠用烙鐵是很不好取下來的。但是通常 power 元件,錫片(錫鉛合金)熔點不會這麼高,但是因為金屬底座或者 lead-frame 大,熱導得快,烙鐵也不好取下。

金線、鋁線、銅線做 wire bond 有份標準,是線徑與耐電流的對照表。臨時查不到...

幾年前有去過深圳 ST 的 的工廠參觀過... 知道一些詳情。

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發表於 2014-5-23 19:46:18 | 顯示全部樓層
另外,基本上 BJT (電晶體) 的微結構在這幾十年來,沒有多大的變化。不像是 power mosfet,從平面結構,變成垂直結構,再變成 Trend 結構;由擴散製程,變成 implantation 製程。(這兩種製程的成本大概差 1~2個數量級)

而BJT幾乎沒啥進步。所以晶片大小的變化,幾乎只反應成本的問題而已。也就是說,概略講,晶片變小,只是 cost down而已。So, 晶片大,成本高,散熱或許比較優些,晶片上的電流密度相對來講是好些,熱,也相對低些,但是反應時間會差些(與電容有關的特性)....
上面的東西,都只一般概略,並不是絕對。畢竟,微結構, substrate 的某些特性,還是有些影響因素。

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發表於 2014-5-24 01:40:30 | 顯示全部樓層
目前薄型封裝(例如TFBGA等),都採用FILM(可以想像成雙面膠,但受熱才會軟化黏住),使用銀膠比例越來越少
發表於 2014-5-25 21:47:40 | 顯示全部樓層
其實,大家目前用得很多的 SD 卡,裡面的 Flash memory 早就已應是使用 stack chip 的封裝了。自己開過一個8G 的Sandisk USB隨身碟,裡面的晶片就是三顆晶片疊再一起。
發表於 2014-5-25 21:54:34 | 顯示全部樓層
重小玩到大的3055
我還沒看過內部也
謝謝分享
發表於 2014-5-27 12:32:07 | 顯示全部樓層
長見識,謝謝分享
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